เลเซอร์ซับนาโนวินาทีอินฟราเรด

NPFL-80IR-1.01

คุณสมบัติเครื่องจักร

1. พัลส์ระดับซับนาโนวินาที; คุณภาพลำแสงใกล้ขีดจำกัดการเลี้ยวเบน; พลังงานพัลส์สูงและกำลังพีกสูง

2. โครงสร้างทางออปติกแบบไฟเบอร์ทั้งหมดที่เป็นเอกลักษณ์ ให้สมรรถนะการแปรรูปเหนือกว่าเลเซอร์ซับนาโนวินาทีชนิดอื่นในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และโฟโตโวลเทอิก พร้อมเสถียรภาพดีเยี่ยม

3. ปรับอัตราการทำซ้ำได้

4. โครงสร้างกะทัดรัด ใช้พื้นที่ติดตั้งน้อย

อุตสาหกรรมที่ใช้งาน

การตัด การเจาะ และการกรีดร่อง (กระจก ซิลิคอน เซรามิก);

การสร้างลวดลายบนฟิล์มบาง (โลหะ ฟิล์มบาง);

การมาร์ก (กระจก ซิลิคอน เซรามิก โลหะ พลาสติก)

เอฟเฟกต์ประมวลผลนิค

รุ่นเครื่อง	เลเซอร์ซับนาโนวินาทีอินฟราเรด NPFL-80IR-1.01
โหมดการทำงาน	พัลส์
กำลังเฉลี่ย (W)	80
ความยาวคลื่นกลาง (nm)	1064
ความกว้างเส้นสเปกตรัม (nm)	＜30; ความกว้างเส้น 3 dB
อัตราการทำซ้ำ (kHz)	100–2000; ปรับได้
ความกว้างพัลส์ (ns)	0.1–0.2 ns; กำหนดเองได้
พลังงานพัลส์เดี่ยวสูงสุด (mJ)	0.8
ช่วงการปรับกำลัง (%)	0-100
เวลาตอบสนอง (us)	＜100
คุณภาพลำแสง (M²)	≤1.5
ความเสถียรของกำลัง (%)	≤3%; 24 h
ขนาดจุดลำแสง (mm)	3.0±0.2; 1/e2
ค่าความรีของลำแสง (%)	＞90; ค่าทั่วไป 92%
การเยื้องของลำแสง (mm)	＜1.0
มุมการกระจายลำแสง (mrad)	＜0.5

สินค้าแนะนำ

HPF-50-IR

Femto-10

NPFL-50G-1.0

ติดต่อเรา

สายด่วนฝ่ายขาย

+86-400-666-4000