HPF-50-IR

เลเซอร์เฟมโตวินาทีกำลังสูง

HPF-50-IR

คุณสมบัติเครื่องจักร

1. พัลส์เฟมโตวินาที

2. พลังงานพัลส์สูงและกำลังพีกสูง

3. คุณภาพลำแสงใกล้ขีดจำกัดการเลี้ยวเบน

4. เสถียรภาพและความน่าเชื่อถือสูง


อุตสาหกรรมที่ใช้งาน

เลเซอร์รุ่นนี้ใช้เทคโนโลยีการขยายพัลส์แบบ Chirped Pulse Amplification ขั้นสูง เพื่อให้เอาต์พุตเลเซอร์เฟมโตวินาทีที่มีคุณภาพลำแสงใกล้ขีดจำกัดการเลี้ยวเบน ได้รับการนำไปใช้งานในระดับปริมาณมากในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์สำหรับผู้บริโภค โดยมีสมรรถนะในการแปรรูปที่ยอดเยี่ยมและเสถียรภาพสูง

ขอบเขตการใช้งาน:

การตัด การเจาะ และการกรีดร่อง (กระจก ซิลิคอน เซรามิก แผงวงจรพิมพ์แบบยืดหยุ่น)

การสร้างลวดลายบนฟิล์มบาง (โลหะ ฟิล์มบาง)

การมาร์ก (กระจก ซิลิคอน เซรามิก โลหะ พลาสติก)


เอฟเฟกต์ประมวลผลนิค

พารามิเตอร์

ค่าพารามิเตอร์

โหมดการทำงาน

พัลส์

กำลังเฉลี่ย (W)

50 W @ 600 kHz;
  20 W @ 100 kHz

ความยาวคลื่นกลาง (nm)

1030

ความกว้างเส้นสเปกตรัม (nm)

<3

ความถี่การทำซ้ำ (kHz)

50–2000

(ปรับได้)

ความกว้างพัลส์ (fs)

600–30000 fs

(กำหนดเองได้)

พลังงานพัลส์เดี่ยวสูงสุด (uJ)

200

ช่วงการปรับกำลัง (%)

0-100

เวลาตอบสนอง (us)

<100

คุณภาพลำแสง (M²)

≤1.3

ความเสถียรของกำลัง (%)

≤2%;24 h

ขนาดจุดลำแสง (mm)

2.5±0.3;

1/e2

ค่าความรีของจุดลำแสง (%)

>90; ค่าทั่วไป 93%

การเยื้องของลำแสง (mm)

<1.0

มุมการกระจายลำแสง (mrad)

<0.5


สินค้าแนะนำ

Top