เลเซอร์ซับนาโนวินาทีสีเขียว

NPFL-50G-1.0

คุณสมบัติเครื่องจักร

1. การออกแบบออปติกแบบไฟเบอร์ทั้งหมด พร้อมพัลส์ระดับซับนาโนวินาที

2. พลังงานพัลส์สูงและกำลังพีกสูง

3. ปรับความถี่การทำซ้ำได้

4. คุณภาพลำแสงใกล้ขีดจำกัดการเลี้ยวเบน

5. โครงสร้างกะทัดรัด ใช้พื้นที่ติดตั้งน้อย

อุตสาหกรรมที่ใช้งาน

เลเซอร์รุ่นนี้ใช้การออกแบบออปติกแบบไฟเบอร์ทั้งหมด ให้เอาต์พุตเลเซอร์ซับนาโนวินาทีที่มีคุณภาพลำแสงใกล้ขีดจำกัดการเลี้ยวเบนและเสถียรภาพดีเยี่ยม สามารถประยุกต์ใช้ได้อย่างกว้างขวางในหลายอุตสาหกรรม รวมถึงเซมิคอนดักเตอร์ โฟโตโวลเทอิก และพลังงานใหม่ โดยใช้อย่างแพร่หลายในงานต่อไปนี้:

การตัด การเจาะ และการกรีดร่องกระจก ซิลิคอน และเซรามิก

การสร้างลวดลายบนฟิล์มบางสำหรับโลหะและฟิล์มบาง

การมาร์กบนกระจก ซิลิคอน เซรามิก โลหะ และพลาสติก

เอฟเฟกต์ประมวลผลนิค

รุ่นเครื่อง	เลเซอร์ซับนาโนวินาทีสีเขียว NPFL-50G-1.0
โหมดการทำงาน	พัลส์
กำลังเฉลี่ย (W)	50
ความยาวคลื่นกลาง (nm)	532
ความกว้างเส้นสเปกตรัม (nm)	＜10; ความกว้างเส้น 3 dB
ความถี่การทำซ้ำ (kHz)	1500–2200; ปรับได้
ความกว้างพัลส์ (ns)	0.6–4 ns; ปรับได้
ช่วงการปรับกำลัง (%)	0-100
เวลาตอบสนอง (μs)	＜5
คุณภาพลำแสง (M²)	≤1.1
ความเสถียรของกำลัง (%)	≤5% ; 24 h
ขนาดจุดลำแสง (mm)	1.2±0.3 ; 1/e2
ค่าความรีของจุดลำแสง (%)	＞90 ; ค่าทั่วไป 95%
การเยื้องของลำแสง (mm)	＜2.0
มุมการกระจายลำแสง (mrad)	＜0.5

สินค้าแนะนำ

HPF-50-IR

NPFL-80IR-1.01

Femto-10

ติดต่อเรา

สายด่วนฝ่ายขาย

+86-400-666-4000