เลเซอร์นาโนวินาที UV พร้อมระบบออปติกและระบบควบคุมแบบบูรณาการ

คุณสมบัติเครื่องจักร

1. ปรับความถี่การทำซ้ำได้ โดยปรับต่อเนื่องในช่วง 20 kHz–200 kHz

2. การออกแบบระบบออปติกและระบบควบคุมแบบบูรณาการ

3. เอาต์พุตในโหมด TEM00

อุตสาหกรรมที่ใช้งาน

1. การมาร์กโลโก้บนตัวเรือนผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์ระดับไฮเอนด์

2. การมาร์กบนบรรจุภัณฑ์อาหาร ท่อ PVC บรรจุภัณฑ์ยา สายเคเบิลและสายไฟ (HDPE, PO, PP ฯลฯ)

3. การมาร์กคิวอาร์โค้ดบน PCB และ FPC

4. การกำจัดสารเคลือบบนวัสดุโลหะและอโลหะ

5. การมาร์กบนเบรกเกอร์อากาศและอุปกรณ์ไฟฟ้าแรงดันต่ำ (วัสดุหน่วงไฟ)

เอฟเฟกต์ประมวลผลนิค

รุ่นเครื่อง	เลเซอร์นาโนวินาที UV พร้อมระบบออปติกและระบบควบคุมแบบบูรณาการ รุ่น 1	เลเซอร์นาโนวินาที UV พร้อมระบบออปติกและระบบควบคุมแบบบูรณาการ รุ่น 2
ความยาวคลื่นเลเซอร์	355 nm
อัตราการทำซ้ำ	20-200 kHz
กำลัง	3 W @ 30 kHz，ค่าทั่วไป	5 W @ 30 kHz，ค่าทั่วไป
ความกว้างพัลส์	＜25 ns @ 30 kHz
ความเสถียรของพัลส์	<3% rms @ 30 kHz, ค่าทั่วไป
โหมดเชิงพื้นที่	TEM00
M²	<1.2
ระดับโพลาไรเซชัน	100:1 แนวนอน
เส้นผ่านศูนย์กลางลำแสง	1.1 mm ±0.1 mm
มุมการกระจายเต็มมุมของลำแสง	<2 mrad
ความสมมาตรของลำแสง	>90%
ค่าการชี้แนวลำแสง	<± 25 µrad/℃
ข้อกำหนดแหล่งจ่ายไฟ	12 VDC±1 V; ≥200 W แหล่งจ่ายไฟแบบสวิตชิ่ง
เวลาเตรียมพร้อม	จากโหมดสแตนด์บายถึงพร้อมใช้งาน: < 10 min จากการเริ่มระบบขณะเย็นถึงพร้อมใช้งาน: < 30 min
ช่วงอุณหภูมิ	ช่วงอุณหภูมิใช้งาน: 18℃ ~ 35℃; ช่วงอุณหภูมิจัดเก็บ: 0℃ ~ 50℃
ช่วงความชื้น	10–90%, ไม่ควบแน่น
ข้อกำหนดการระบายความร้อน	ระบายความร้อนด้วยน้ำ; ความแม่นยำของอุณหภูมิชิลเลอร์ ±0.1℃; อัตราการไหลขั้นต่ำ 4 L/min
การคายความร้อนรวม	<200 W
ขนาดหัวเลเซอร์ (L × W × H)	370 mm×165 mm × 136 mm
น้ำหนักหัวเลเซอร์	10 kg