เลเซอร์นาโนวินาที UV

คุณสมบัติเครื่องจักร

1. ปรับความถี่การทำซ้ำได้

2. การออกแบบแบบโมดูลาร์

3. เอาต์พุตในโหมด TEM00

4. กำลังเฉลี่ยสูง สูงสุด 30 W

อุตสาหกรรมที่ใช้งาน

ด้วยเทคโนโลยีการแปรรูปแบบเย็นเฉพาะที่ทำให้บริเวณที่ได้รับผลกระทบจากความร้อน (HAZ) มีขนาดเล็กมาก เครื่องนี้จึงสามารถแปรรูปละเอียดพิเศษและสร้างโครงสร้างจุลภาคบนวัสดุอโลหะเปราะสำหรับการผลิตระดับไฮเอนด์ได้ ใช้อย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรม 3C และกระบวนการสำคัญในการผลิตโทรศัพท์มือถือ มียอดส่งมอบรวมมากกว่า 15,000 เครื่อง และครองอันดับต้น ๆ ด้านส่วนแบ่งตลาดของเลเซอร์ระดับเดียวกัน

ขอบเขตการใช้งาน:

1. การมาร์ก การแยกแผง PCB (Depaneling) การตัด และการเจาะ PCB และ FPC

2. การแปรรูปไมโครโฮลและบลายด์โฮลบนเวเฟอร์ซิลิคอน

3. การแปรรูปเซลล์แสงอาทิตย์

4. การกรีดร่องเวเฟอร์ซิลิคอน

5. การกรีดร่อง การตัด และการเจาะเซรามิก

6. การกำจัดหมึกและสารเคลือบ PVD

7. การมาร์กพื้นผิววัสดุ

เอฟเฟกต์ประมวลผลนิค

รุ่นเครื่อง	HL-NS-355-5/10/15	HL-NS-355-20
คุณลักษณะเลเซอร์
ความยาวคลื่น	355 nm
กำลัง	5 W/10 W/15 W	20 W
ความถี่การทำซ้ำ	10-200 kHz	60–400 kHz
ความกว้างพัลส์	10-100 ns	20-100 ns
ความเสถียรของพัลส์	<3%rms,1σ	<3%rms,1σ
คุณลักษณะลำแสง
โหมดเชิงพื้นที่	TEM00
M²	<1.3
ระดับโพลาไรเซชัน	100:1 แนวนอน
เส้นผ่านศูนย์กลางจุดลำแสง	1.1 mm ±0.1 mm	1.4 mm ±0.2 mm
มุมการกระจายเต็มมุมของลำแสง	<2 mrad
ความสมมาตรของจุดลำแสง	>90%
ทิศทางลำแสง	<± 25 µrad/℃
สภาวะการทำงาน
แรงดันไฟฟ้าจ่าย	100-240 V,50 -60 Hz
เวลาอุ่นเครื่อง	จากโหมดสแตนด์บายถึงพร้อมใช้งาน: <10 min; จากการเริ่มระบบขณะเย็นถึงพร้อมใช้งาน: <30 min
ช่วงอุณหภูมิ	ขณะใช้งาน: 18~35℃; ขณะไม่ใช้งาน: 0~50℃
ความชื้น	10–90%, ไม่ควบแน่น
วิธีการระบายความร้อน	ระบายความร้อนด้วยน้ำ; ความแม่นยำของชิลเลอร์: ±0.1℃; อัตราการไหลขั้นต่ำ: 6 L/min
การใช้พลังงานรวม	<1000 W
คุณลักษณะทางกายภาพ
ขนาดหัวเลเซอร์ (L × W × H)	500 mm×230.5 mm×132 mm
น้ำหนักหัวเลเซอร์	18 kg
ขนาดคอนโทรลเลอร์ (L × W × H)	477 mm× 440 mm × 177 mm
น้ำหนักคอนโทรลเลอร์	21 kg