อุตสาหกรรมที่ใช้งาน อุตสาหกรรมจอแสดงผลและเซมิคอนดักเตอร์
CD12-XC6C6D1A

Front-end Photoresist Coating and Developing System

CD12-XC6C6D1A

คุณสมบัติเครื่องจักร

1. Stack‑type high‑throughput structure with a compact footprint

2. Equipped with a multi‑chamber shared photoresist supply system with multi‑stage back‑suction to lower photoresist consumption

3. Optional components including high‑precision hot plate, WEE and AOI units to satisfy higher standard process requirements

4. Modular‑designed core units support flexible configurations and customization

5. Satisfy factory automation demands

6. Achieves inline connection with mainstream lithography tools


อุตสาหกรรมที่ใช้งาน

Applied to the processing of compound semiconductors, power devices, MEMS, RF integrated circuits and LEDs


อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์
Technical Data Sheet

Machine   Model

Front-end   Photoresist Coating and Developing System CD12-XC6C6D1A

Wafer   Cassette Quantity

4LP

wafer Type

Round Wafers

wafer 尺寸（mm）

200,300

Throughput（WPH）

120

Substrate   Materials

Si、Glass

Applicable   Processes

PI、I- line、Barc、SOG、SOC、KrF


ติดต่อเรา
ติดต่อเรา
ติดต่อโทรศัพท์
สายด่วนฝ่ายขาย
+86-400-666-4000
Top