อุตสาหกรรมที่ใช้งาน

Compact Photoresist Coating and Developing System CD06-XS1C1D1A

คุณสมบัติเครื่องจักร

1. Compact footprint and excellent stability

2. Easy operation and maintenance


อุตสาหกรรมที่ใช้งาน

Photoresist coating and developing for Compound Semiconductors, Power Devices, MEMS, RF ICs, LEDs, Scientific‑research Projects and Optical Components.


อุตสาหกรรมแผงจอ OLED และ LCD
Technical Data Sheet

Machine   Model

Compact   Photoresist Coating and Developing System CD06-XS1C1D1A

Cassette

2CS

wafer Type

Round   Wafers

wafer Size（mm）

50-150

Throughput（WPH）

50

Substrate   Materials

Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4

Processes

g-line、i- line、PI


สินค้าแนะนำ
ติดต่อเรา
ติดต่อเรา
ติดต่อโทรศัพท์
สายด่วนฝ่ายขาย
+86-400-666-4000
Top